高硬度・低リン型無電解ニッケルめっき薬品
※ エンプレート NI-426
薬品
電子部品
めっき
ニッケル
※ エンプレート NI-426
※当製品はライセンス契約により日本、マレーシア、インドネシア、タイ、フィリピン、ブルネイ、ベトナム、シンガポール、韓国、台湾、香港、中国にのみ販売可能です。
※This product can only be sold to Japan, Malaysia, Indonesia, Thailand, Philippines, Brunei, Vietnam, Singapore, South Korea, Taiwan, Hong Kong, and China under a license agreement.
エンプレート NI-426は浴の安定性に優れた無電解ニッケルめっき薬品です。析出皮膜は高硬度、平滑性の良いニッケル－リン合金であり、低応力、低電気抵抗と優れたはんだ付け性を備えているため、種々の機能用途に使用できます。
◆製品の特徴
① リン含有量は1～3 %の低リン皮膜。
② ビッカース硬度650～700 Hvの高硬度皮膜。
③ 建浴時の析出速度は20～24 μm/hr。
※This product can only be sold to Japan, Malaysia, Indonesia, Thailand, Philippines, Brunei, Vietnam, Singapore, South Korea, Taiwan, Hong Kong, and China under a license agreement.
エンプレート NI-426は浴の安定性に優れた無電解ニッケルめっき薬品です。析出皮膜は高硬度、平滑性の良いニッケル－リン合金であり、低応力、低電気抵抗と優れたはんだ付け性を備えているため、種々の機能用途に使用できます。
◆製品の特徴
① リン含有量は1～3 %の低リン皮膜。
② ビッカース硬度650～700 Hvの高硬度皮膜。
③ 建浴時の析出速度は20～24 μm/hr。
鉛フリー
重金属フリー
皮膜硬度
エンプレート NI-426は高硬度タイプです。めっき直後から700 Hvの硬度がありますが、数百度の熱処理により、さらに硬度が上昇します。400℃付近で最大硬度となり、それを過ぎると急に硬度が低下します。
pHの影響
エンプレート NI-426は広いpH範囲で使用することができますが、析出速度およびリン含有率はpHの影響を受けます。pH7付近ではリン含有率は2%前後ですが、pH4.5では6%となります。析出速度はpHが高いほど早くなる傾向にあります。