ITO与玻璃基材用化学镍电镀液

Melplate NI-867

Chemicals
Electronic
Plating
Nickel

Melplate NI-867

◆特点
1.内应力极低,镀层附着力优异。
2.不含会影响液晶性能的钠离子。
3.可在 ITO 和玻璃基材上形成光亮平滑的镀层。
4.在持续补充的条件下,沉积速率稳定。
5.配制后初始沉积速率为 0.5 μm / 6 分钟。

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