适用于半导体工艺的干膜光刻胶剥离液

Melstrip DR-3320

Chemicals
Semiconductor
Stripping
Photoresist

Melstrip DR-3320

Meltstrip DR-3320 是一种用于半导体应用的干膜光刻胶(DFR)剥离液。

◆特点
1. 通过将干膜光刻胶分解为微小颗粒,可快速去除细间距图形中的 DFR
2. 可剥离较厚的

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