适用于晶圆工艺的钛蚀刻液

Melstrip TI-3991

Chemicals
Semiconductor
Etching
Titanium

Melstrip TI-3991

Melstrip TI-3991 是一种用于晶圆上溅射钛膜的蚀刻液。

◆特点
1. Melstrip TI-3991 是一种以过氧化氢为基础的碱性钛蚀刻液
2. 浸泡处理时的蚀刻速率为 25℃ 时约 30 nm/min,40℃ 时约 85 nm/min
3. 对钛具有高度选择性蚀刻性能
4. 对铜、铝硅焊盘、焊球、二氧化硅、氮化硅及聚酰亚胺膜腐蚀性低
5. 不含环境有害物质
无氟

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