用于硅晶圆钛膜的蚀刻液

Melstrip TI-3960

Chemicals
Semiconductor
Etching
Titanium

Melstrip TI-3960

Melstrip TI-3960 是一种用于硅晶圆上钛层蚀刻的蚀刻液。

◆特点
1. 含氟化合物的酸性钛蚀刻液
2. 在最佳条件下蚀刻速率为 150–200 nm/min

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