干膜抗蚀剂剥离液添加剂

Melstrip DF Additive

Chemicals
PCB
Stripping
Photoresist

Melstrip DF Additive

◆特点(Melstrip DF Additive)
1.可防止铜表面锡的置换沉积,抑制后续蚀刻工艺中的蚀刻不良。
2.用作含氢氧化钠或氢氧化钾的干膜抗蚀剂剥离液添加剂。
3.不影响干膜抗蚀剂的表皮尺寸或剥离时间。
4.无需更改现有工艺条件或设备。
5.不含 PRTR 管控物质。

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